업계 최초로 차세대 D램 제조에 High NA EUV 도입전영현 "넥스트 AI 위한 기술 기반 마련해 나갈 것"서울 서초구 삼성전자 서초사옥의 모습. 2026.4.30 ⓒ 뉴스1 DB관련 키워드삼성전자ASML포토마스크박기호 기자 경제계 "초광역특구법 환영…노동특례 제외 동시 발의 매우 유감"대한상의, 기업 인사·노무 담당자 대상 '직내괴 매뉴얼' 웨비나 개최관련 기사SK하이닉스, 2028년 D램 공정에 High NA EUV 적용윤 대통령, 금주 이재용·최태원과 네덜란드 순방…'반도체 세일즈' 나선다"반도체 공급망에서 中 배제돼도 글로벌 시장 끄떡없다"반도체 생산 日보다 4.5배 많은데…소재·장비 절반은 '외산'