업계 최초로 차세대 D램 제조에 High NA EUV 도입전영현 "넥스트 AI 위한 기술 기반 마련해 나갈 것"서울 서초구 삼성전자 서초사옥의 모습. 2026.4.30 ⓒ 뉴스1 DB관련 키워드삼성전자ASML포토마스크박기호 기자 대한상의, '지역기업 이야기' 연재…'숨어 있는 기업' 도전·가치 조명삼성전자 노조 물품, 최승호 위원장 장인 업체서 발주 '특혜' 논란관련 기사SK하이닉스, 2028년 D램 공정에 High NA EUV 적용