한중일 "지식재산권 창출·보호에 협력"…'지식재산 시스템' 구축키로

(서울=뉴스1) 정지형 기자 = 한중일 3국이 27일 향후 10년을 대비해 지식재산(IP) 관련 협력을 한층 더 강화하는데 뜻을 모았다.

윤석열 대통령과 기시다 후미오 일본 총리, 리창 중국 국무원 총리는 이날 제9차 한중일 정상회의를 계기로 이 같은 내용을 담은 '3국 지식재산 협력 10년 비전에 관한 공동성명'을 부속문서로 채택했다.

한중일 3국은 "기술 발전과 혁신이 코로나19와 같은 글로벌 위기 극복의 핵심이며 지식재산이 이를 달성하기 위한 촉매제"라고 공감했다.

그러면서 "우리는 3국 혁신가들의 지식재산 창출과 활용을 촉진하고 지식재산권을 적극적으로 보호하기 위해 지속적으로 협력할 필요가 있다"고 밝혔다.

3국은 한국 특허청과 일본 특허청, 중국 국가지식재산국이 향후 10년간 상호 이행할 최우선 사항으로 신기술에 대비한 '지식재산 시스템 구축'을 꼽았다.

한중일 특허청은 인공지능(AI)과 사물인터넷(IoT) 등 4차 산업혁명 기술 발전에 발맞춰 새로운 창작물들에 지식재산권이 적시에 부여되고 법적 보호를 받을 수 있게 관련 규범과 심사 관행, 시스템을 개선하기로 했다.

또 3국은 각국 특허청이 특허정보에 대한 대중의 접근성을 높이고 민간 부문의 특허 정보 활용을 장려하기 위해 함께 노력하기로 합의했다.

아울러 3국은 "'3국+X(엑스) 지식재산 협력'을 추구하는 데 있어 다른 국가 또는 지역으로 지식재산 협력을 확대하기 위해 노력한다"고 밝혔다.

kingkong@news1.kr