삼성전자 평택 반도체 단지 1라인 전경.(삼성전자 제공) © News1

올해 세계 반도체 시설 투자(CAPEX)가 1000억달러(약 108조원)를 넘어설 것이란 전망이 나왔다. 이미 지난 1분기 삼성전자, SK하이닉스의 시설 투자액만 100억달러를 상회했다. 

25일 반도체 전문 시장조사기관 IC인사이츠에 따르면 올해 전세계 반도체 기업들의 시설투자 총액은 1026억달러(약 110조7160억원)에 달할 것으로 예상된다.지난해 사상 최대치(900억달러)보다 14% 증가한 수준이다. IC인사이츠는 지난 3월 보고서에서 올해 반도체 시설 투자액이 전년 대비 8% 증가할 것이라고 전망했으나 증가율을 상향 조정했다. 

IC인사이츠는 지난해에 이어 D램과 낸드플래시를 포함한 메모리 반도체 시장의 호황이 계속될 것으로 내다봤다. 메모리 시장을 주도하는 삼성전자, SK하이닉스가 투자를 더욱 늘릴 것이라는 얘기다.

지난해 반도체 시설 투자액은 전년 대비 34% 증가한 900억달러다. IC인사이츠는 메모리 '슈퍼사이클(초호황)'을 맞은 삼성전자가 기흥, 평택 등 반도체 공장 캐파(생산능력)를 확대한 덕분이라며 이를 '삼성 버블(Samsung Bubble)'이라 표현했다.IC인사이츠는 "삼성전자는 지난해 242억달러를 반도체 투자로 썼는데 올해는 전년 대비 감소할 것으로 보이지만 이미 지난 1분기에 최근 3분기 평균보다 많은 67억달러(약 7조2000억원) 이상을 투자했다"고 분석했다.

삼성전자가 최근 공개한 분기보고서에도 올 1분기 반도체 부문 시설 투자액이 7조2181억원으로 나와있다. 지난해 같은 기간 5조220억원보다 43.7%나 급증한 것이다. 올해 1분기를 포함해 최근 4분기간 삼성의 반도체 투자액은 266억달러에 달한다. 지난해 전세계 투자지출 합계(900억달러)의 약 30% 수준이다.

IC인사이츠는 "올해 삼성의 반도체 투자액은 200억달러로 지난해보다 42억달러 감소할 것으로 예상한다"면서도 "1분기 지출을 감안할 때 더 늘어날 수도 있을 것"이라고 했다.

SK하이닉스도 올해 설비투자를 적극적으로 확대하고 있다. 지난 1분기 투자액은 4조6180억원으로 전년 동기 대비 92% 증가했다. 창사 이래 사상 최대 분기 투자액이다.

올해 투자액의 대부분은 3D(3차원) V낸드플래시 생산기지인 청주 M15팹과 D램을 전담하는 중국 우시 공장에 쓰일 예정이다. 청주 M15팹과 우시 공장은 올 연말부터 본격 가동될 것으로 보인다. IC인사이츠는 SK하이닉스의 올해 설비투자액이 지난해와 견줘 42% 늘어난 115억달러에 이를 것으로 예상했다. 

삼성전자와 SK하이닉스의 올해 1분기에 반도체 시설 투자 집행 금액은 11조8361억원(약 109억달러)에 달한다. 2곳의 국내 반도체 기업이 IC인사이츠가 전망한 올해 글로벌 투자액의 10%를 3개월만에 채운 것이다.

2000~2018년 전세계 반도체 설비 투자(CAPEX) 지출 추이. 2018년은 추정치다.(자료=IC인사이츠) © News1

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