4인치 실리콘 웨이퍼에 전사된 그래핀© News1

KAIST(총장 강성모)는 19일 전기·전자공학과 최성율 교수(45) 연구팀이 단원자층 그래핀을 도장 찍듯 자유롭게 옮기는 기술을 개발했다고 밝혔다.연구진은 이 기술을 활용, 기존의 직접박리 기반 전사공정으로 달성하기 어려웠던 ▲그래핀 박막 적층 ▲구조물 표면이나 유연한 기판으로 전사 ▲4인치 웨이퍼 크기의 대면적 전사 등이 가능할 것이라고 밝혔다.

이 기술은 웨어러블 스마트기기 등 다양한 분야에 사용되는 그래핀 전자소자 상용화에 활용될 전망이다.

최 교수는 “이 기술은 공정이 범용적이고 대면적 전사도 가능하므로 그래핀 전자소자 상용화에 기여할 수 있을 것”이라고 밝혔다.

카이스트 전기·전자공학과 최성율 교수와 양상윤 연구교수가 주도한 이번 연구에는 같은 과 조병진 교수, 한국전자통신연구원(ETRI) 최춘기 박사가 참여했다.이번 연구결과는 나노·마이크로 과학 분야의 국제 학술지 스몰(small)에 지난 14일자 표지논문으로 게재됐다.


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